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  • MODEL 145050KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源
    50KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源

    50KEV光斑可調(diào)節(jié)離子源配備雙燈絲可集成濾波器MODEL 1450,具有可調(diào)光斑尺寸≥5 μm,用于空間定義的濺射或注入發(fā)射調(diào)節(jié)轟擊提供穩(wěn)定的離子電流

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):MODEL 1450訪問(wèn)量:371
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  • UHV美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 多探針?lè)治鱿到y(tǒng)
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 多探針?lè)治鱿到y(tǒng)

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 多探針?lè)治鱿到y(tǒng):UHV 除了表面分析組件外,LK Technologies還專門設(shè)計(jì)和構(gòu)建完整的特高壓系統(tǒng),這些系統(tǒng)通常結(jié)合了LK組件和其他制造商的多種表面分析方法。

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  • TDS1000美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 熱解吸光譜儀TDS1000 我們的TDS1000是一個(gè)集成的系統(tǒng)工具,使用戶能夠以高靈敏度和定量校準(zhǔn)獲得TPD光譜。

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):TDS1000訪問(wèn)量:363
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  • LK1000M美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子槍 LK1000M 具有出色能量分辨率的電子源,針對(duì)高輸出電流進(jìn)行了優(yōu)化應(yīng)用于逆UPS,EELS等電子碰撞實(shí)驗(yàn)。

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):LK1000M訪問(wèn)量:422
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  • MINICMA™美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 電子能譜儀MINICMA™ 對(duì)固體表面進(jìn)行微區(qū)成份分析及元素分布。可應(yīng)用于半導(dǎo)體材料、冶金、地質(zhì)等部門。

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):MINICMA™訪問(wèn)量:299
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  • ELS3000美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 俄歇能譜儀
    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 俄歇能譜儀

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 俄歇能譜儀 ELS3000 俄歇電子能譜(Auger electron spectroscopy,簡(jiǎn)稱AES),是一種利用高能電子束為激發(fā)源的表面科學(xué)和材料科學(xué)的分析技術(shù)。

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):ELS3000訪問(wèn)量:572
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  • RVL2000LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)
    LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)

    LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)-RVL2000 的精密反向LEED低能電子衍射儀光學(xué)元件采用所有UHV結(jié)構(gòu),無(wú)需使用玻璃纖維或聚合物涂層線束。提供完整系列的型號(hào)和選件,包括低電流(nA,pA)MCP型號(hào)。

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):RVL2000訪問(wèn)量:572
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  • ELS5000IK-TECHNOLOGIES 高分辨電子能量損失譜儀
    IK-TECHNOLOGIES 高分辨電子能量損失譜儀

    美國(guó) IK-TECHNOLOGIES 高分辨電子能量損失譜儀在分辨率和信號(hào)水平方面表的

    更新時(shí)間:2024-08-17型號(hào):ELS5000訪問(wèn)量:320
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