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美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)

簡(jiǎn)要描述：美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)
Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用

  • 產(chǎn)品型號(hào)：EGPS-4190
  • 廠商性質(zhì)：代理商
  • 更新時(shí)間：2024-09-10
  • 訪  問  量：110

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌應(yīng)用領(lǐng)域綜合

聯(lián)系 龔經(jīng)理 I8721868497 VX同號(hào)

美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用


EMG-4193 / EGPS-4190 / COPS-4190

帶有匹配的 EGPS-4190 電源和 COPS-4190 柱光學(xué)裝置的 EMG-4193 電子槍是一個(gè)完整的子系統(tǒng)，可隨時(shí)連接到用戶的真空系統(tǒng)。可選的光發(fā)射可以通過系統(tǒng)的視口聚焦用戶提供的電磁輻射源來實(shí)現(xiàn)。EMG-4193 可以提供能量從 1 keV 到 30 keV 和電流從 1 nA 到 10 µA 的電子。該槍使用 (LaB 6 ) 陰極提供小至 25 µm 的小光斑，使用壽命長(zhǎng)達(dá)數(shù)千小時(shí)。還可以對(duì)光束進(jìn)行光柵化以對(duì)目標(biāo)成像。應(yīng)用包括表面物理和真空物理實(shí)驗(yàn)。

能量范圍： 1 keV 至 30 keV
光束電流： 1 nA 至 10 µA
光斑尺寸： 25 µm 至 500 µm
安裝：4?CF
特性/選項(xiàng)：光發(fā)射、操作時(shí)內(nèi)部對(duì)準(zhǔn)、靜電聚焦、四極對(duì)準(zhǔn)、八極偏轉(zhuǎn)/光柵/象散器、光束消隱、差分泵浦

美國(guó)kimball physics EMG-4193電子槍系統(tǒng)

Kimball Physics 電子槍，其設(shè)計(jì)用于各種超高真空 (UHV) 表面物理、空間物理和處理應(yīng)用。噴槍可聚焦小光斑，用于 X 射線生產(chǎn)、焊接和 RHEED 等應(yīng)用；或用于泛光束，用于電荷中和、電子束洗滌、空間模擬和輻射損傷研究。

操作范圍：

  • ● 能量范圍：1 eV 至 100 keV

  • ● 射束電流范圍：1 nA 至 20 mA

  • ● 光斑尺寸范圍：15 μm（聚焦柱）至 500+ mm（泛光光束）

優(yōu)勢(shì)：

  • ● 客戶可更換的點(diǎn)火裝置

  • ● 操作期間的機(jī)械對(duì)準(zhǔn)

  • ● 可存儲(chǔ)的控制設(shè)置

  • ● 電腦遙控/計(jì)量

性能：

  • ● 光束電流穩(wěn)定性：反饋穩(wěn)定的發(fā)射電流控制；優(yōu)于每小時(shí) ± 0.1%

  • ● 能量穩(wěn)定性：每小時(shí) ± 0.01%，滿輸出時(shí)每 8 小時(shí) ± 0.02%，以最大限度地減少色差

應(yīng)用：

  • ● 快速脈沖/光束消隱

  • ● 偏轉(zhuǎn)/光柵

  • ● 槍式法拉第杯


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